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Effect of Strain on the Growth of InAs/GaSb Superlattices: An X-Ray Study

机译:应变对Inas / Gasb超晶格生长的影响:X射线   研究

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摘要

We present a detailed x-ray diffraction study of the strain in InAs/GaSbsuperlattices grown by molecular beam epitaxy. The superlattices were grownwith either InSb or GaAs interfaces. We show that the superlattice morphology,either planar or nanostructured, is dependent on the chemical bonds at theheterointerfaces. In both cases, the misfit strain has been determined for thesuperlattice layers and the interfaces. We also determined how the magnitudeand sign of this strain is crucial in governing the morphology of thesuperlattice. Our analysis suggests that the growth of self-assemblednanostructures may be extended to many systems generally thought to have toosmall a lattice mismatch.
机译:我们目前对分子束外延生长的InAs / GaSb超晶格中的应变进行详细的X射线衍射研究。超晶格是通过InSb或GaAs界面生长的。我们表明,无论是平面的还是纳米结构的超晶格形态,都取决于异质界面上的化学键。在这两种情况下,已经确定了超晶格层和界面的失配应变。我们还确定了该应变的大小和符号对于控制超晶格的形态至关重要。我们的分析表明,自组装纳米结构的增长可能会扩展到许多通常被认为具有太小的晶格失配的系统。

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